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電(dian)(dian)鍍(du)(du)膜厚檢測儀設(she)備樣(yang)品(pin)(pin)移(yi)(yi)動設(she)計為樣(yang)品(pin)(pin)腔外部調節，多(duo)點測試(shi)時(shi)移(yi)(yi)動樣(yang)品(pin)(pin)方便快(kuai)捷，有(you)助(zhu)于(yu)(yu)提升(sheng)效率。$n 設(she)計更科學，軟硬(ying)件配合，機電(dian)(dian)聯動，輻射安全(quan)于(yu)(yu)國標(biao)GBZ115-2002要求(qiu)。 $n測定電(dian)(dian)鍍(du)(du)膜厚儀器設(she)備不(bu)在受標(biao)準樣(yang)品(pin)(pin)的限(xian)制，在無(wu)鍍(du)(du)層標(biao)樣(yang)的情況下直接可(ke)以測試(shi)樣(yang)品(pin)(pin)的鍍(du)(du)層厚度，測試(shi)結果經得(de)起(qi)科學驗證。

鍍層化驗(yan)機器設備 產品(pin)指標： 測厚(hou)技術：X射線(xian)熒光(guang)測厚(hou)技術 測試樣品(pin)種類(lei)：金(jin)屬(shu)鍍層，合(he)金(jin)鍍層 測量下限：0.003um

韓國電(dian)鍍膜(mo)厚檢(jian)測儀(yi)(yi)(yi)(yi)精度(du)高(gao) 我公(gong)司銷售產品包括(kuo)X射線熒光(guang)(guang)光(guang)(guang)譜(pu)儀(yi)(yi)(yi)(yi)（含能量色散和波長色散型）（XRF）、電(dian)感耦合等離子(zi)體(ti)發射光(guang)(guang)譜(pu)儀(yi)(yi)(yi)(yi)（ICP）、電(dian)感耦合等離子(zi)體(ti)質譜(pu)儀(yi)(yi)(yi)(yi)(ICP-MS) 、原子(zi)熒光(guang)(guang)光(guang)(guang)譜(pu)儀(yi)(yi)(yi)(yi)（AFS）、原子(zi)吸收分光(guang)(guang)光(guang)(guang)度(du)計（AAS）、光(guang)(guang)電(dian)直讀光(guang)(guang)譜(pu)儀(yi)(yi)(yi)(yi)（OES）、氣相色譜(pu)儀(yi)(yi)(yi)(yi)（GC）、氣相質譜(pu)儀(yi)(yi)(yi)(yi)（GC-MS）、液(ye)相色譜(pu)儀(yi)(yi)(yi)(yi)（LC）、液(ye)相質譜(pu)儀(yi)(yi)(yi)(yi)（LC-MS）、能譜(pu)儀(yi)(yi)(yi)(yi)（EDS）、高(gao)頻紅外碳硫(liu)分析儀(yi)(yi)(yi)(yi)（CS）等等

韓國ISP鍍層(ceng)厚度分析儀 單層(ceng)厚度范圍： 金鍍層(ceng)0－8um, 鉻鍍層(ceng)0-15um, 其余一(yi)般為0-30um以內(nei)， 可最小測量(liang)達(da)0.001um。

電鍍(du)鍍(du)層光譜(pu)分析 技術服務 賣(mai)方(fang)向買方(fang)派遣指導安(an)裝(zhuang)、服務人(ren)員(yuan)(yuan)。合同簽定后，賣(mai)方(fang)應負(fu)責(ze)本項目(mu)的項目(mu)經理，負(fu)責(ze)協調賣(mai)方(fang)技術人(ren)員(yuan)(yuan)按雙方(fang)約定的時間(jian)去(qu)現場指導安(an)裝(zhuang)、調試、技術交底(di)、人(ren)員(yuan)(yuan)培訓(xun)等。

電鍍鍍層X光(guang)譜分析儀器 本儀器產品(pin)特點： 采(cai)用(yong)(yong)了Si-Pin探測器，性(xing)(xing)能穩(wen)定(ding)，重復(fu)性(xing)(xing)和(he)重現性(xing)(xing)好。 在(zai)客戶遠(yuan)(yuan)端請求下，我司技術人員可以遠(yuan)(yuan)程協助用(yong)(yong)戶解決常見操作問題（需(xu)連接因(yin)特網）。 可進行多(duo)達(da)5層的(de)多(duo)鍍層檢測。

電路(lu)板電鍍膜厚(hou)無損檢測儀 金屬行(xing)業精確定量分(fen)析(xi)(xi)軟件。可(ke)(ke)同時分(fen)析(xi)(xi) 8 種元素(su)。最小二乘法計算峰(feng) 值反卷積(ji)。采(cai)用盧(lu)卡(ka)斯(si)-圖(tu)思計算方(fang)法進行(xing)矩陣校正(zheng)及內部元素(su)作用分(fen)析(xi)(xi)。金屬分(fen)析(xi)(xi)精度(du)可(ke)(ke)達±0.02%，貴金屬（8-24 Karat） 分(fen)析(xi)(xi)精度(du)可(ke)(ke)達±0.05kt Multi-Ray. 對鍍液(ye)進行(xing)分(fen)析(xi)(xi)。采(cai)用不(bu)同的(de)(de)數學計算方(fang)法對鍍液(ye)中的(de)(de)金屬離子進行(xing)測定。含全元素(su)、內部元素(su)、矩陣校正(zheng)模塊。

X-ray鍍(du)層(ceng)膜厚分(fen)析儀(yi) 鍍(du)層(ceng)測(ce)厚儀(yi)是一種高性(xing)(xing)能高精度(du)(du)熒光光譜(pu)儀(yi)，是工業(ye)制造(zao)生產中常用(yong)(yong)的檢(jian)測(ce)儀(yi)器(qi)，采用(yong)(yong)非真空樣品腔；專業(ye)用(yong)(yong)于PCB電(dian)(dian)鍍(du)鍍(du)層(ceng)分(fen)析、PCB鍍(du)層(ceng)厚度(du)(du)測(ce)量及(ji)金屬電(dian)(dian)鍍(du)鍍(du)層(ceng)分(fen)析；采用(yong)(yong)多種光譜(pu)擬合(he)分(fen)析處理技術；可(ke)增加合(he)金成(cheng)份(fen)分(fen)析及(ji)RoHS功能。具(ju)有可(ke)靠性(xing)(xing)高、穩定性(xing)(xing)好、操作簡便等優點，被廣泛應用(yong)(yong)在制造(zao)業(ye)、金屬加工業(ye)、化工業(ye)、商檢(jian)等鍍(du)層(ceng)檢(jian)測(ce)領域(yu)。